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由于半导体技术对操作室的清洁度要求---,通常使用鼓风机技术中挥发的各种废气,因此半导体行业的废气排出具有排出量大、排出浓度小的特点。这些废气排放主要分为酸性气体、碱性气体、有机废气和有毒气体4种。酸碱废气主要来自扩散、cvd、cmp、蚀刻等工序,这些工序用酸碱清洗液清洗晶片。目前,半导体制造技术中常用的清洗溶剂是和---混合剂。这些工序产生的废气包括--- 、---、磷酸等挥发气,vocs一企一策综合整治方案流程,碱性气体为氨。
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